徠卡高真空鍍膜儀是磁控濺射、多弧離子、蒸發(fā)鍍膜的混合性設備，是在多弧離子鍍膜機的基礎上裝備圓柱靶或平面磁控靶，設備具有離子鍍的高離化率、高堆積速度的特色，一起也具有磁控濺射低溫、安穩(wěn)的長處，適合鍍各種復合膜。
徠卡高真空鍍膜儀主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組限及電柜（控制電柜、電子槍電樞）組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。在防止油污染和縮短工作周期等方面具有有效的性能。
徠卡高真空鍍膜儀的主要結構講解：
1.蒸騰與磁控濺射的混合設備：多功能，合適量產(chǎn)，適應性強。
2.磁控濺射與多弧離子鍍的混合運用：多弧能夠進步炮擊清洗質量，添加薄膜與基材結合力。與磁控濺射一起作業(yè)可鍍制復合膜（高能離子源清洗活化，成膜速度快）。
3.多對中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合運用：中頻靶更安穩(wěn)（Al），離化率高、堆積速率快、成膜均勻。中頻反應濺射如鍍制Si02、TiO2，一起鍍多層不一樣原料簿膜。
4.射頻、直流、中頻、柱弧的混合運用：射頻能夠直接鍍制絕緣保護膜如SiO2/Ag/SiO2。
5.圓柱弧、中頻、多弧的混合運用：柱弧確保高離化率的一起，削減大顆粒堆積的份額，到達有好的結合力又有較好表面光潔度的作用。真空鍍膜機適用中高層次商品如表帶、表殼、眼鏡框、手機殼、高爾夫球具、衛(wèi)浴潔具、飾品等。
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